一、技術參數
典型應用行業：光學行業、微電子行業、精密鑄造行業。
用于矽單晶片、砷化镓片、碳化矽、藍寶石晶片、半導體化合物晶片、硬盤盤片、芯片、寶石、石英、硬質玻璃、光學鏡片🙂↔️等領域的研磨抛光。
（一）使用方法：
①工藝條件和物理指标：
密度（g∕cm3）：1.38±0.02，PH=7.3±0.02，粘度（mPa.S）：＜10。
待洗研磨抛光工件→研磨機研磨抛光→清洗→進入下道工序。
③可原液使用，或用純水稀釋2-3倍後使用。
（二）注意事項：
①在使用本品時，不可混入其它藥液和酸性、堿性物質；
②若不慎濺入眼中，立即用清水沖幹淨即可；
③使用本品的槽、箱在加入本品前必須清洗幹淨（把🙆🏿玻璃粉等物質清除幹淨），如果槽、箱中有其它殘液,會影響本🙆🏿品性能；
④如果設備原來用的工作液已産生細菌、發臭，建議添😌加殺菌劑在研磨機内循環，以便管道系統内、磨盤等地方👀的細菌清洗幹淨；
（三）效果圖對比：
（四）溶液維護：
經驗補加法：應定期補加或更換新液（建議每3-5天更換新液😗一~次，具體視實際情況而定）。
（五）故障排除：
二、産品特點
1、本品是由高分子潤滑劑、極壓抗磨劑、防鏽劑、抗氧劑、螯合劑、消泡劑、殺菌防腐劑合成的研磨抛光液。适用于藍寶石襯底👱🏼♂️與其他硬質材料的粗抛與精👩🏿❤️💋👨🏽抛的平整化加工，加工🧑🏻❤️🧑🏼速率高，表面平整度、粗糙度達到國際先進水平，具有加工效率高、使用壽命長的特點，且光潔度高，懸浮性強，易清洗，完全可以替^代同類進口産🧛🏾♀️品。通常隻需配合研磨抛光設😮💨備使用，本品不含苯酚👨🏻🏭、氯化石蠟、亞硝酸😁鹽、磷和重金屬🧑🏽❤️💋🧑🏻等受控物質。
2、型号：2002藍寶石研磨液
3、保存與運輸：25㎏∕桶塑料桶包裝。儲存于陰涼幹燥處。按非危險品儲運。保質期壹年。
4、本品特點：
去除速率高，抛光效果好，抛光表面粗糙度好，光潔度佳🧎🏻♀️➡️無🔞劃^傷；
本品有良好的冷卻性與防鏽性、潤滑性、耐高溫（高達1600-1800度）；
具有良好的防腐性與防鏽性，對提高工件表面光潔度和延長研磨設備的使用壽命具有顯著效果，本品配有螯合劑，故在研磨抛光過程中能有效加速循環液中碎屑等雜質快速沉澱，從而提高本品的耐用性；
本品無刺激性氣味、無毒，對環境無污染；
分散性、滲透性能極好，耐磨性好，與傳統抛光粉相比，本品操作簡便、抛光表面易清洗、在抛光設備。
貯存時應避免曝曬，貯存溫度爲0-40℃，避免敞口長期與空氣接觸。
